GDZT-200高低溫循環(huán)裝置簡介：

能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設備的加熱和冷卻。

●分3個系統(tǒng)：制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、預冷系統(tǒng)，三個系統(tǒng)可連續(xù)使用，也可分別單獨使用。

●快速加熱和冷卻，可連續(xù)升降溫。

●溫度控制范圍寬，全程不需要換導熱介質(zhì)，導熱介質(zhì)消耗少。

●全封閉循環(huán)系統(tǒng)，高溫時導熱流體不易揮發(fā)和氧化，低溫下不易吸入空氣中水分，可延長導熱流體的使用壽命。

●高溫冷卻、制冷功能，可以從高溫直接降溫（如可從200℃直接降溫）。

●制冷器換熱器采用全釬焊板式換熱器，占用空間小，換熱效率高。

●液位顯示功能，隨時監(jiān)控液位，避免缺液。

●高溫切斷、急停、延時、漏電、過流電、過熱等多重保護功能，充分保證使用安全。

●冷凝、預熱方式為風冷，節(jié)約水資源。

GDZT-200高低溫循環(huán)裝置典型應用：

●化工、制藥或生物領域雙層反應釜的溫度控制。

●攪拌罐的溫度控制。

●高壓反應釜的溫度控制。

●材料測試中的應用。

●微反應器技術領域的放大工藝過程的溫度控制。

●蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。

●工藝過程中的溫度變化模擬控制。

●大型恒溫控制系統(tǒng)。

●小型恒溫控制系統(tǒng)。

●半導體設備的溫度控制。

●汽車工藝中熱測試平臺的溫度控制。

●真空室的溫度控制。

GDZT-200高低溫循環(huán)裝置技術參數(shù)：