適用于光學顯微鏡，TEM，SEM樣品的樣品制備

• Leica EM TXP 自動靶面處理機

  Leica EM TXP是全新設計的自動靶面處理機，它具備樣品切割、靶面研磨、拋光和電鏡樣品修塊等多種功能，并且自動化的產品設計使得以往耗時的靶面處理過程變得簡單而快捷。EM TXP一體化整合立體顯微鏡和LED環形照明系統，除滿足常規的SEM、TEM和LM等樣品切割后表面拋光和組織修塊外，還特別適用于極微小樣品的靶面處理。

• Leica EM RES101 離子減薄

  全計算機控制的多功能離子減薄系統，有高度的靈活性，減薄角度可調由0º至90º ，一體化設計，重復性實驗設備，可靠具操作性 ，全電腦控制，精確的參數調整，運行中無需人干涉 ，鞍式離子槍，高能量-快速蝕刻 ，制冷系統，銅傳導，確保TEM，SEM在低溫下操作 ，主機內置2級泵，確保高真空

• Leica EM FC6 冷凍超薄切片機

  UC6配備FC6冷凍超薄切片裝置是生物冷凍超薄切片和工業冷凍超薄切片的必須選擇. 利用預編刀臺切片程序，加上內置靜電發生器和EM FC6冷凍箱，用戶可以很輕易舒適地完成常溫/冷凍的超薄切片工作。兩分鐘內就可完成工作.

• Leica EM TIC020 離子減薄

  三重離子束的斜面切割功能為掃描電鏡分析樣品提供精確和高效的樣品制備，減薄深度速度 1500um 120um/H ，三束離子槍，高真空，內置2級泵

• Leica EM SCD005 冷噴涂儀

  冷噴涂儀能滿足廣泛的SEM噴涂要求，細微顆粒膜層，水冷噴涂頭，可用蝕刻程序清理樣品面

• Leica EM SCD050 冷噴涂儀

  冷噴涂儀能滿足廣泛的SEM噴涂要求，細微顆粒膜層，水冷噴涂頭，可用蝕刻程序清理樣品面

• Leica EM SCD500 高真空噴涂儀

  高真空噴涂儀能滿足高分辨率FE-SEM的噴涂要求，內置的隔膜泵和渦輪分子篩泵系統提供真空無油的制樣環境，操控簡單容易，可以選用各種金屬標靶

• Leica EM MED020 真空噴涂系統

  模塊組合桌面型的高分辨率真空噴涂系統，提供多種制樣處理，多樣化的模塊滿足各種不同的應用，渦輪分子篩泵系統和可選的冷陷提供干凈的制樣環境，通用控制單元分別操控真空系統，真空測量和噴涂處理

• Leica EM VCT100 冷凍傳送系統

  通過冷凍傳送系統為分析樣品提供無交叉污染的傳送，常溫或冷凍樣品傳送都能做到無污染，傳送桿重量很輕，不影響分析裝置

  能保障分析裝置的分辨率不變，樣品制備和分析獨立分開，樣品制備重復性高

• Leica EM BAF060 冷凍蝕刻系統

  高端的冷凍蝕刻系統，能提供精確的冷凍斷裂接著高分辨率的噴涂功能. 沒污染沒假象的樣品制備，裝載倉氣閘加快樣品真空傳送裝載，電子束噴涂角度可調和旋轉造影

• Leica HPM100 高壓冷凍系統

  冷凍樣品，深入200μm厚，直徑達6mm，不會產生冰晶現象，活樣品不用冷凍保護，可以冷凍懸浮樣品，培養細胞和組織，冷凍效果重復性高，裝載樣品快速，操控容易，一按完成樣品冷凍固定

• Leica EM CPC

  CPC以模塊式設計，便于快速和容易更換儀器組件：冷凍固定，冷凍制備和冷凍觀察。CPC是一種"藝術造型"的多功能工作裝置，用于多種樣品制備：滲入式冷凍法、使用丙烷和乙烷制冷空網技術和采用MM80注射頭的金屬鏡冷凍固定以及冷凍替代的樣品制備，漸進的溫度降低法和紫外聚合技術，CPC也可以被作為一個易變溫度的冷凍作臺使用。