Praying Mantis™高溫反應(yīng)室對于具有高表面積的粉末特別有效。這使得漫反射成為研究異構(gòu)催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)和氧化機制的寶貴工具。此高溫反應(yīng)室非常適合在嚴格控制的溫度和壓力下進行此類研究。高溫反應(yīng)室應(yīng)用允許在受控壓力和廣泛溫度下進行漫反射 (DRIFTS) 光譜測量。它與FT-IR和UV-VIS漫反射光譜的Praying Mantis配件一起使用，也可用于拉曼光譜。

特征

設(shè)計用于使用 KBr 窗口的高真空(133 μPa 或 10-6 torr)到 133 kPa(1 ktorr)或帶 ZnSe 窗口的 1.5 MPa(11.3 ktorr)的操作。

溫度高達 910°C(真空下)。

易于適應(yīng)操作高達 3.44MPa (25.8 ktorr) 與可選的高壓圓頂。

提供三個入口/出口口，用于疏散電池和引入氣體。

由耐化學(xué)腐蝕的316不銹鋼制成。

可選的 Silcotek/Restek 惰性涂層，具有更高的惰性和耐腐蝕性。

可選的冷卻盒，可使用冷水機組或再循環(huán)器進行適度冷卻或加熱。

適用于微光譜應(yīng)用(包括拉曼)的替代窗口組件。

美國Harrick Praying Mantis反應(yīng)室 HVC高溫反應(yīng)室 CHC-CHA低溫反應(yīng)室 HVC-MRA-5拉曼高溫反應(yīng)室

美國Harrick Praying Mantis反應(yīng)室主要應(yīng)用：在壓力和溫度控制范圍內(nèi)，允許漫反射測試，必須配套Praying Mantis漫反射附件

美國Harrick Praying Mantis反應(yīng)室兩種模式可選：

1、高溫反應(yīng)室(HVC)：操作壓力從真空(133μPa或10-6torr)到133kPa(1 ktorr)，操作溫度可高達910℃ (在真空條件下)。可選配高壓穹頂加壓至3.44MPa(25.8 ktorr)。

2、低溫反應(yīng)室(CHC-CHA)：操作壓力從真空(133μPa或10-6torr)到133kPa(1 ktorr)，操作溫度從-150℃至600℃ (在真空條件下)。

美國Harrick Praying Mantis反應(yīng)室主要特點：

左右兩個進/出氣口，中間一個抽真空口

316不銹鋼耐化學(xué)腐蝕

反應(yīng)室。

低壓加熱盒。

K型熱電偶。

樣品包裝工具和溢出托盤。

帶兩個 KBr 或 ZnSe 窗口和一個玻璃觀察窗口(FTIR 配置)的圓頂。

帶兩個 SiO2 窗口和一個玻璃觀察窗(UV-Vis-NIR 配置)的圓頂。

主要型號#