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憑借過去 60 年的技術創新歷史和業內領導地位， FEI 成為了透射電子顯微鏡 (TEM)、 掃描電子顯微鏡 (SEM)、整合了 SEM 與聚焦離子束 (FIB) 的 DualBeam™ 儀器和 用于精密高速切割與加工的專用聚焦離子束儀器的性能標準。 FEI 成像系統在三維 表征、分析和修改/原型設計領域實現了亞埃(埃:十分之一納米)級分辨率。
Prisma& Prisma EX多功能環境真空鎢燈絲分析掃描電子顯微鏡
一款真正多用途實驗室用性能全面、易操作的SEM鎢燈絲掃描電子顯微鏡
具有獨有的ESEM™環境真空模式
高真空、低真空和ESEM™環境真空三種真空模式，適合分析*廣泛的樣品，樣品范圍包括導電材料、不導電材料、脫氣、未鍍膜或其他不適用真空的樣品。
一系列集成的實時分析軟件來完成動態的實驗檢測分析。
低真空和ESEM環境真空能夠滿足非導電材料和含稅樣品的檢測分析
原位功能使即使是絕緣的或高溫的樣品也能獲得可靠的分析結果。
支持掃描前的預設置，具有導航和SmartScanTM功能的相機提高了工作效率、數據質量和滿足更高要求的使用要求。
-165°C to 1400°C溫度范圍下的原位分析
加速電壓: 200 V - 30 kV
電子放大倍數: 6x – 1，000，000x (可同時采集和顯示四幅圖像)
探測器：高真空模式Everhart-Thomley二次電子探測器(E-T SED)；低真空SE探測器（LVD）；ESEM環境真空模式氣體二次電子探測器（GESD）；樣品室紅外CCD相機
真空系統：1個250L/s渦輪分子泵，1個旋轉機械泵；**的“穿過透鏡”的壓差真空系統；排氣時間≤3.5min到高真空，≤4.5min到ESEM真空/低真空；可選CryoCleaner冷阱；可選升級到無油滾動/干式PVPs
樣品室：
o 內徑 340 mm
o 分析工作距離 10 mm
o 12個附件接口
o EDS采集角: 35°
分辨率：
高真空模式
3.0 nm @ 30 kV (SE)
4.0 nm @ 30 kV (BSE)*
8.0 nm @ 3 kV (SE)
高真空下減速模式
7.0 nm @ 3 kV
低真空模式
3.0 nm @ 30 kV (SE)
4.0 nm @ 30 kV (BSE)
10 nm @ 3 kV (SE)
ESEM環境真空
3.0 nm @ 30 kV (SE)
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