隨著納米技術的發展，超臨界流體技術因其獨特的優勢在超細顆粒制備的應用也越來越廣泛，如催化劑，磁性材料，精細陶瓷，緩釋藥物等。Hellix系統專注于超細顆粒制備，其微粒粒徑小且分布窄，微粒的大小和外觀可通過操作參數進行調節，結晶微粒無有機溶劑殘留的優點。

主要技術參數：

*同一系統可實現超臨界流體超細微粒制備的三種方式：超臨界溶劑快速膨脹方法（RESS），圧縮流體抗溶劑沉淀方法（PCA），超臨界抗溶劑方法（GAS）

***操作溫度可達 250℃

***操作壓力可達 10，000 psi (680bar)

***流量 50L/min （氣體），400ml/min（液態）

*可選配分離模塊

*模塊化的設計，可方便的進行系統調整

*萃取釜承壓為 30，000 psi，萃取體積：5ml至4000ml可選，可根據用戶需求進行定制。

*可添加夾帶劑 (夾帶劑泵的壓力為10，000 psi）

*觸摸屏電腦控制，人性化的操作界面

*微粒的粒徑小且分布窄（可達納米級）

*微粒的大小和外觀可通過控制操作參數進行調整

*結晶微粒無溶劑殘留

*干燥氣凝膠

*可選配攪拌功能

*可選配液體逆流萃取

*可選配PSE（壓力溶劑萃取）包

*三重過壓安全保護裝置及經濟壓力釋放裝置

*ASI是超臨界技術的***，通過了ISO9001的質量認證，是超臨界領域**通過美國環保署綠色認證的公司。