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一、產品概述：
VGF坩堝是應用于垂直梯度凝固法（VGF）技術中的一類坩堝。目前，VGF技術作為單晶生長的熱門技術，是微光電子和半導體產業生長GaAs單晶和InP單晶的良好選擇。
二、主要特點：
1.可制作大規格坩堝（**直徑8inch，**高度18inch）；
2.純度>99.99%
3.使用次數多(具有優異的層間結構)。
三、產品應用：
應用于原位合成GaAs、InP等半導體單晶
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