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型號 | EVAP400S | |
主真空室 | 方形前開門結構，尺寸L×W×H:400×400×450mm | |
進樣室(選配) | 開門結構，尺寸約為?200 X 300mm | |
真空系統配置 | 主真空室 | 復合分子泵、機械泵、氣動閘板閥 |
進樣室 | 機械泵、分子泵、閥門 | |
極限壓力 | 主真空室 | ≤6. 67x10-5pa(經烘烤除氣后） |
進樣室 | ≤6.67X10-4 pa(經烘烤除氣后） | |
恢復真空時間 | 主真空室 | 30分鐘可達到6. 6x10-4 pa(系統短時間暴露大氣并充干燥氮氣開始抽氣） |
進樣室 | 30分鐘可達到6. 6x10-3 Pa (系統短時間暴露大氣并充干燥氮氣開始抽氣） | |
磁控靶組件 | 2-4套永磁靶；靶材尺寸?60mm (其中一個可濺射磁性材料）；各靶射頻濺射和直流濺射兼容；靶內水冷；三個靶可共同折向上面的樣品中心；靶與樣品距離90~110mm可調；每個靶配氣動擋板。 | |
基片加熱臺 | 樣品尺寸 | ?3英寸 |
運動方式 | 基片可連續回轉，轉速0-30rpm | |
加熱 | 基片加熱**溫度600℃±1℃ | |
擋板形式 | 進口SMC轉角氣缸控制 | |
工藝氣路系統 | 質量流量控制器2-4路 | |
*可選部件 | 進樣室磁控靶組件 | 永磁靶，靶材尺寸? 60mm。 |
膜厚儀 | 國產/進口 | |
靜音氣泵 | 無油潤滑 | |
計算機控制系統 | 自動控制、工藝讀入、參數設置、實時監控等功能 | |
設備占地面積 | 主機 | 1800X1200mm2 |
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