HT-RTA59HD高溫快速退火系統可以在SiC等高熔點的材料快速加熱到1800℃。

儀器特點

1. 可在10s內加熱到1800℃；

2. 使用冷墻能快速加熱和降溫；

3. 使用大功率的紅外燈和橢圓形的集中反射爐；

4. 桌面式石英室加熱爐；

5. 通過USB連接電腦編輯溫控程序；

6. 加熱時可通過電腦顯示屏實時觀察；

應用：

l SiC(GaN)電力設備的氧化膜形成過程的研究和退火；

l 半導體的研究和開發過程；

l 玻璃基板、陶瓷、符合材料的熱處理；

l 陶瓷材料的熱沖擊試驗；

l 燒結高熔點金屬材料的各種熱處理測試；

l 作為溫度梯度爐使用；

l 可用作氣體分析的加熱爐；