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10-20萬元型號
HTF1200-5/20-4F-HV品牌
皓越科技產地
上海樣本
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多種可用操作方式：
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產品應用
高真空CVD系統是一款專業在沉底材料上生長高質量石墨烯、碳納米管、碳化硅的專用設備，廣泛應用于在半導體、納米材料、碳纖維、碳化硅、鍍膜等新材料新工藝領域。
產品特點
高真空CVD系統主要由高溫腔體、石英管、石英支架、氣路系統、分子泵機組、自動化控制系統、冷卻系統等組成。
1、沉底材料可采用銅箔、石墨等;
2、生長腔體采用進口高純石英管，配石英支架、為石墨烯等材料的生長提供潔凈環境;
3、爐膛采用進口高純氧化鋁多晶體纖維，不易掉粉、壽命長且保溫性能好。加熱絲采用優質摻鉬鐵鉻鋁合金加熱絲，溫場均勻，能耗低；
4、密封法蘭均采用不銹鋼材質，配水冷套，可連續長時間工作;
5、氣路系統采用兩路質量流量計(可拓展多路),配預混系統;
6、氣體種類： He/Ar、C2H2、NH3、N2, H2、PH3、GeH4、B2H6；
7、溫度、氣體、真空、冷卻水等通過PLC控制，通過PC實時控制和顯示相關的實驗參數，自動保存實驗參數，也可采用手動控制；
8、系統采用集成化設計，控制系統、混氣罐、質量流量計等均內置在箱體內部，占地面積小。整體安裝四個可移動輪子，方便整體移動。
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上海皓越產品圖片 
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