朱俊 教授，博士生導(dǎo)師
| 專家姓名: | 朱俊 | 職務(wù): | ||
| 職稱: | 教授，博士生導(dǎo)師 | 專業(yè)類別: | ||
| 研究方向： | ||||
1. 薄膜生長動力學(xué)研究 2.介電、鐵電、鐵磁和半導(dǎo)體等異質(zhì)復(fù)合結(jié)構(gòu)的制備 3.多功能復(fù)合的新型器件的應(yīng)用研究 |
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| 自我介紹： | ||||
朱俊，男，博士、教授，博士生導(dǎo)師，1966年1月生，籍貫江蘇省。在南京大學(xué)物理系完成本科、碩士和博士的學(xué)習(xí)，1995年至1996年在德國亞堔工業(yè)大學(xué)(RWTH-Aachen)做訪問學(xué)者進行合作研究。2004年4月到成都電子科技大學(xué)微電子與固體電子學(xué)院從事教學(xué)、科研工作至今。 在科研工作上，主要從事電子功能薄膜材料制備以及結(jié)構(gòu)與性能相關(guān)性的研究。負責(zé)或參加了國家重大基礎(chǔ)研究“973”項目（兩項）、國家自然科學(xué)基金重點項目（一項）和國家自然科學(xué)基金面上項目（三項）、總裝預(yù)研重點項目（一項）、國家重點研發(fā)計劃課題（一項）以及其他國家級研究項目多項。對Si基柵介質(zhì)Hf系氧化物高介電薄膜進行了創(chuàng)新的研究；對BST、PZT、LN等介電、鐵電薄膜以及BFO、CFO等磁電薄膜的生長制備及結(jié)構(gòu)與性能相關(guān)性的物理機理進行了系統(tǒng)的探索性研究；在氧化物功能薄膜與寬禁帶半導(dǎo)體GaN的集成生長與耦合性能做了大量原創(chuàng)性的研究。迄今已在國外核心雜志(SCI)上，如：Applied physics letter， J. Applied physics ， Applied Physics A，J. Phys. D: Appl. Phys， Journal of Crystal Growth， Thin Solid Films等發(fā)表140多篇論文；并獲中國發(fā)明專利12項。在國際、國內(nèi)學(xué)術(shù)會議上做邀請或口頭報告20多次。目前研究興趣在介電、鐵電、鐵磁和半導(dǎo)體等薄膜及異質(zhì)復(fù)合結(jié)構(gòu)的制備、新性能的研究，以及探索多功能復(fù)合新器件的應(yīng)用。 |
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| 所在單位: | 電子科技大學(xué) | |||
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