2004年本科畢業于浙江大學,2009年博士畢業于中科院半導體研究所。隨后在美國懷俄明大學、密歇根大學以及德國伊爾梅諾理工大學等知名高校工作。德國物理學會會員。2015年進入中科院半導體研究所半導體材料科學重點實驗室工作。與國外諸多知名科研單位有較深的合作關系。
取得的重要科研成果:
(1)系統研究了空穴從染料激發態到P型GaP的注入。研究表明,在半導體表面存在耗盡層的條件下,空穴的注入效率近于100%。并運用wxAMPS軟件結合連續態模型對空穴注入的過程進行計算擬合,從理論和實驗兩方面驗證了空穴高效率注入的存在,填補了P型半導體在光電化學研究領域的空白。(2)利用瞬態光譜法和光電化學法驗證了空穴從量子點激發態到GaP注入的存在,深化了對量子點材料電荷遷移的認識,拓展了量子點材料在光電化學領域的應用。(3)將鐵酸鉍鐵電薄膜制備成光電化學電極,研究不同鐵電極化條件對于電極光解水效率及方式的影響。此工作拓展了光解水材料的研究領域,可實現單一電極兼具產氫產氧功能,為光解水反應的智能化控制奠定了基礎。 |